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【純計(jì)算】ASS: 用于高效CO電還原為C2產(chǎn)物的Cu/Sc和Cu/Ti亞表面合金



【純計(jì)算】ASS: 用于高效CO電還原為C2產(chǎn)物的Cu/Sc和Cu/Ti亞表面合金
研究背景
一氧化碳電還原成C2產(chǎn)品(主要是C2H4和EtOH)為在溫和條件下實(shí)現(xiàn)碳中和和能量?jī)?chǔ)存和轉(zhuǎn)換提供了一條有效途徑。近日,燕山大學(xué)孫科舉、深圳大學(xué)馬秀芳等人利用密度泛函理論計(jì)算,研究了CuM(100)表面(M=Ru、Au、Zn和Ga)和Cu/M(100)亞表面(M=3d Sc-Zn)合金的成分和結(jié)構(gòu)對(duì)2CO和C2O2相對(duì)穩(wěn)定性的影響。
計(jì)算方法
本文使用VASP軟件包(VASP)進(jìn)行自旋極化DFT計(jì)算,并通過(guò)投影增強(qiáng)波(PAW)方法來(lái)描述離子核和電子之間的相互作用,以及在截?cái)嗄転?00eV的平面波基組中擴(kuò)展了Kohn Sham價(jià)電子波函數(shù)。作者對(duì)交換關(guān)聯(lián)效應(yīng)采用廣義梯度近似(GGA)中的Perdew-Burke-Ernzerhof(PBE)交換泛函,并將能量收斂標(biāo)準(zhǔn)設(shè)置為10-4 eV,力的收斂標(biāo)準(zhǔn)設(shè)置為0.03 eV?-1
作者使用(3×3)超胞的四層平板模型對(duì)Cu(100)、CuM(100)和Cu/M(100)表面進(jìn)行建模。表面或次表面中的1/9或一層Cu原子分別被M原子取代。在任意兩個(gè)重復(fù)的板之間使用15?的真空區(qū)域,以避免z方向之間的相互作用。作者使用(4×4×1)Monkhorst-Pack k點(diǎn)網(wǎng)格對(duì)所有表面的布里淵區(qū)進(jìn)行采樣。此外,頂部的兩層和吸附質(zhì)保持完全松弛,其余的層被固定在它們的本體晶格位置。
結(jié)果與討論
【純計(jì)算】ASS: 用于高效CO電還原為C2產(chǎn)物的Cu/Sc和Cu/Ti亞表面合金
圖1 最優(yōu)吸附結(jié)構(gòu)
作者使用計(jì)算標(biāo)準(zhǔn)氫電極(CSHE)來(lái)模擬電化學(xué)反應(yīng)的熱化學(xué)過(guò)程。在存在單層和帶電水層的情況下,Cu(100)、CuM(100)和Cu/M(100)表面的結(jié)構(gòu)如圖1所示。
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圖2 吸附能
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圖3 最優(yōu)吸附結(jié)構(gòu)
為了研究環(huán)境的影響,作者計(jì)算了真空下和存在單層和帶電水層(分別表示為Cu、H2O/Cu和H3O+/Cu)時(shí)的吸附能(ΔEads),具體如圖2所示,相應(yīng)的結(jié)構(gòu)如圖3所示。無(wú)論環(huán)境如何,兩個(gè)CO分子都在Cu(100)上的橋位吸附(見(jiàn)圖3a、3c和3f),并且在三種環(huán)境中ΔEads最多相差0.14eV。然而,C2O2吸附的情況則大不相同。只有一種C2O2通過(guò)C和O原子結(jié)合的構(gòu)型在真空下存在(表示為β-C2O2*,見(jiàn)圖3b),而在H2O/Cu和H3O+/Cu上也發(fā)現(xiàn)了另一種C原子結(jié)合到表面的構(gòu)型(表示為C2O2*,見(jiàn)圖3d和3g)。與2CO*相比,C2O2*在H2O/Cu和H3O+/Cu上的C-O鍵被延長(zhǎng)(0.06-0.08?),即為了形成C2O2*,需要削弱CO*分子的5σ和2π鍵。而C-O鍵弱化引起的能量損失大于C-C鍵形成引起的能量增益,從而導(dǎo)致C2O2*在真空下不穩(wěn)定。相反,C2O2更傾向于通過(guò)C和O原子結(jié)合,而另一個(gè)C和O基團(tuán)從表面脫離(見(jiàn)圖3b)。C-C-O的鍵角為174°,表明形成了離域π鍵,進(jìn)而解釋了β-C2O2*在真空下的穩(wěn)定性。
單個(gè)或帶電水層的存在進(jìn)一步穩(wěn)定了β-C2O2*,從ΔEads相對(duì)于真空降低0.23和0.59eV可以看出(見(jiàn)圖2a)。這可以歸因于β-C2O2*中的O原子和水層中的H原子之間的氫鍵相互作用。H3O+/Cu上比H2O/Cu上更低的ΔEads可以很好地對(duì)應(yīng)于氫鍵構(gòu)型。具體而言,β-C2O2*中的O原子和H3O+/H2O中的H+/H原子之間的距離在H3O+/Cu上分別為1.39和1.84?(見(jiàn)圖3h),比H2O/Cu上的相應(yīng)值短0.43和0.28?(參見(jiàn)圖3e)。此外,H3O+/Cu上的O?H?O鍵角分別為173°和166°,比H2O/Cu上的鍵角(145°和140°)更接近線性構(gòu)型。H3O+/Cu上的這種有利構(gòu)型表明氫鍵更強(qiáng),這是由于氫鍵的形成不僅穩(wěn)定了β-C2O2*,而且穩(wěn)定了H+,而H2O/Cu只穩(wěn)定了前者。圖2a還顯示,C2O2*在H2O/Cu和H3O+/Cu上比β-C2O2*更穩(wěn)定。除了這兩種構(gòu)型的內(nèi)在差異外,C2O2*中形成的氫鍵比β-C2O2*中形成的更多(即3比2,見(jiàn)圖3d、3e、3g、3h),從而使其在兩種環(huán)境中具有更高的穩(wěn)定性。
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圖4 反應(yīng)能
如圖4a所示,H2O/Cu和H3O+/Cu上的反應(yīng)能ΔH分別為0.09和0.10eV,遠(yuǎn)低于Cu上的0.78和0.77eV,從而使得CO/CO2電還原中具有不同的碳鏈生長(zhǎng)機(jī)制。如圖2b所示,Ru的引入大大加強(qiáng)了2CO和C2O2的吸附。此外,與Cu-H3O+相比,2CO*在CuRu上比C2O2*更穩(wěn)定。這是因?yàn)槠鋬A向于與CuRu(100)上的Ru原子結(jié)合,導(dǎo)致ΔEads的大幅度減少。同時(shí),為了與Ru原子結(jié)合, C2O2*的構(gòu)型發(fā)生了更大的變化,即C2O2*中的C原子從Cu-H3O+上的橋位移動(dòng)(見(jiàn)圖3g)到CuRu上的Cu原子和Ru原子的頂位(見(jiàn)圖3j)。進(jìn)而導(dǎo)致C2O2*相對(duì)于2CO*的穩(wěn)定性較低,并且在CuRu(100)上具有更多吸熱的CO*二聚步驟。如圖4顯示,在CuRu上的ΔH為0.77eV,遠(yuǎn)高于Cu-H3O+上的0.10eV。這表明活性更強(qiáng)的金屬對(duì)于C2O2*的形成是無(wú)效的。此外,Zn、Au和Ga的添加通常使2CO*和C2O2*變得不穩(wěn)定。因此,CuAu、CuZn和CuGa上的CO*二聚反應(yīng)的ΔH與純Cu相當(dāng),或略高于純Cu(圖4a)。因此,當(dāng)惰性Zn、Au或Ga被引入Cu(100)時(shí),Cu變得更具活性。
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圖5 吸附能和Bader電荷的關(guān)系與2CO和C2O2的吸附能
圖5a顯示了2CO和C2O2的ΔEads與Cu/M(100)(M=V-Zn)上Cu原子的平均Bader電荷(表示為BC)之間的線性相關(guān)性。與2CO(-1.05至0.52e-)相比,C2O2的離散度更小,這與其更強(qiáng)的離子鍵有關(guān),并且可以從Cu/M(100)表面吸附時(shí)轉(zhuǎn)移的電荷更多(-1.25至-0.97 e-)可以看出。此外,這兩種線性關(guān)系的斜率相當(dāng),約為1.30,表明2CO和C2O2之間的相對(duì)吸附強(qiáng)度沒(méi)有被M(M=V-Zn)顯著調(diào)節(jié)。從2CO(ΔECO)和C2O2(ΔEC2O2)的ΔEads之間的線性相關(guān)性中可以看出(圖5b),C2O2*相對(duì)于Cu/Sc和Cu/Ti上的2CO*具有更強(qiáng)的穩(wěn)定性。如圖4b所示,除了Sc和Ti之外,在Cu(100)的亞表面添加Mn、Zn、Fe和Ni也改善了CO*二聚步驟的熱化學(xué)過(guò)程。
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圖6 自由能曲線
由于CO*二聚的熱化學(xué)過(guò)程在Cu/Sc(100)和Cu/Ti(100)上具有最大增強(qiáng),因此作者計(jì)算了兩個(gè)表面的活化自由能ΔG。如圖6所示,Cu/Sc(100)和Cu/Ti(100)的ΔG分別為0.21和0.29eV,比Cu(100)上的ΔG低0.19和0.11eV,其中ΔG越高,對(duì)應(yīng)的C-C鍵距離越短(2.05?)。因此,在Cu(100)的亞表面添加Sc和Ti不僅有利于CO*二聚反應(yīng)的熱化學(xué)過(guò)程,而且有利于其動(dòng)力學(xué)過(guò)程,即提高了CO/CO2電還原為C2物種的活性。
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圖7 中間體最優(yōu)吸附結(jié)構(gòu)
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圖8 自由能曲線
作者在帶電水層存在條件下,研究了C2H4和EtOH在Cu(100)、Cu/Sc(100)和Cu/Ti(100)上的形成。相應(yīng)的表面中間體結(jié)構(gòu)如圖7所示,并且將CO電還原為C2H4和EtOH的自由能圖如圖8所示。從圖中可以看出,C2H4形成的中間體比EtOH形成的中間體更穩(wěn)定,這意味著C2H4在熱力學(xué)上比EtOH更容易形成。與Cu(100)相比, Cu/Sc(100)和Cu/Ti(100)進(jìn)一步穩(wěn)定了C2H4形成的中間體。因此,在Cu(100)的亞表面引入Sc和Ti不僅提高了CO電還原為C2物種的活性,而且提高了對(duì)C2H4的選擇性。
結(jié)論與展望
作者表明,相對(duì)于2CO,C2O2的更高穩(wěn)定性和增強(qiáng)的CO電還原活性是通過(guò)亞表面Sc和Ti的存在增加Cu(100)的層間分離來(lái)實(shí)現(xiàn)的,并且減少了表面Cu和亞表面原子的dz2軌道重疊,以及具有比Cu-C2O2更不穩(wěn)定的σ鍵。該工作為CO/CO2電還原催化劑的設(shè)計(jì)和開(kāi)發(fā)提供了理論指導(dǎo)。
文獻(xiàn)信息
Hai-Yan Su et.al Identification of Cu/Sc and Cu/Ti subsurface alloys for highly efficient CO electroreduction to C2 products Applied Surface Science 2023
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2023.157314

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