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蘇大沈明榮/范榮磊AEM:梯度Ni3S2層促進堿性介質中硅光電陰極的太陽能制氫

蘇大沈明榮/范榮磊AEM:梯度Ni3S2層促進堿性介質中硅光電陰極的太陽能制氫
利用硅(Si)作為光電陰極一直被認為是實現具有成本效益的光電化學(PEC)太陽能制氫的理想途徑。然而,電荷轉移效率和穩定性之間的矛盾嚴重限制了Si基PEC器件在堿性介質中的實際應用。
基于此,蘇州大學沈明榮教授和范榮磊教授(共同通訊作者)等人報道了一種簡便的熱電沉積工藝,用于集成梯度結構的Ni3S2(G-Ni3SxO2-x)層,以同時保護和充當堿性溶液中Si光電陰極的催化劑。
蘇大沈明榮/范榮磊AEM:梯度Ni3S2層促進堿性介質中硅光電陰極的太陽能制氫
作者在NiSO4?6H2O和硫脲組成的前驅體溶液中,利用簡單的熱電沉積方法在p-Si基底上制備了Ni3S2和G-Ni3SxO2-x納米結構。
根據SEM圖像顯示,一層空間互連的共形G-Ni3SxO2-x納米片在Si上呈近似垂直排列,厚度約為200 nm。研究發現,G-Ni3SxO2-x層不僅為析氫反應(HER)提供了豐富的活性位點,而且還促進了電荷分離和傳輸以及傳質。
蘇大沈明榮/范榮磊AEM:梯度Ni3S2層促進堿性介質中硅光電陰極的太陽能制氫
通過實驗測試發現,所制備的Si光電陰極在模擬AM 1.5 G光照射下表現出優異的PEC活性,具有0.39 V (vs. RHE)的高起始電位,在0 V (vs. RHE)時光電流密度為-33.8 mA cm-2,優于最先進的基于p-Si的光電陰極。
此外,G-Ni3SxO2-x層與Si基底具有良好的界面接觸,G-Ni3SxO2-x/Si界面處的應力可忽略不計。在堿性介質中,電流密度超過30 mA cm-2下可以提供超過120 h的良好耐久性。總之,這種梯度結構策略為設計高效耐用的PEC器件鋪平了道路。
蘇大沈明榮/范榮磊AEM:梯度Ni3S2層促進堿性介質中硅光電陰極的太陽能制氫
Gradient-Structuring Manipulation in Ni3S2 Layer Boosts Solar Hydrogen Production of Si Photocathode in Alkaline Media. Adv. Energy Mater., 2021, DOI: 10.1002/aenm.202102865.
https://doi.org/10.1002/aenm.202102865.

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