?西交大AEM:局域幾何構型決定了碘化銅對電化學CO2還原的選擇性 2023年10月12日 上午4:11 ? 頭條, 百家, 頂刊 ? 閱讀 13 在二氧化碳電化學還原反應(eCO2RR)中,高活性和高選擇性地產生增值多碳(C2+)產物的電催化劑是碳中和技術實現和產業化的決定性因素。基于此,西安交通大學沈少華教授教授(通訊作者)等人通過銅箔的電化學/濕化學碘化和隨后的原位電化學還原反應制備了兩種碘化物衍生的銅(ID-Cu)電催化劑(E-ID-Cu和W-ID-Cu)。與電拋光銅(EP-Cu)相比,E-ID-Cu和W-ID-Cu都能產生高選擇性的多碳(C2+)產物,這歸因于它們具有高缺陷密度和高表面粗糙度的局域幾何特征。 DFT計算結果表明,ID-Cu中的高缺陷密度和高表面粗糙度都可以通過提高d帶中心來改善Cu位點的*CO吸附,從而促進C-C耦合進一步生成C2+產物。本文進一步研究了EP-Cu、E-ID-Cu和W-ID-Cu表面上eCO2RR的反應路徑,其中C2+路徑的速率決定步驟(RDS)為*CO+*CO→*OCCO。E-ID-Cu (ΔGf = 0.66 eV)和W-ID-Cu (ΔGf = 0.49 eV)的RDS能壘比EP-Cu (ΔGf = 0.83 eV)更低,表明C2+更容易在ID-Cu上生成,通過改變局域幾何構型可以促進C-C偶聯。 本文基于理論計算結果揭示了eCO2RR反應機理的產物選擇性。(1)對于具有低缺陷密度的EP-Cu,低覆蓋率的*CO更傾向于加氫生成*CHO進一步生成CH4;(2)對于具有高缺陷密度的E-ID-Cu,*CO更傾向于二聚生成C2+,較高的表面粗糙度(Rf = 10.34)將極大地抑制CH4的選擇性生成;(3)對于W-ID-Cu,極高的表面粗糙度(Rf = 88.34)可能導致CH4的生成被完全抑制,高表面粗糙度將提供豐富的表面活性中心,從而產生C2+。 Localized Geometry Determined Selectivity of Iodide-Derived Copper for Electrochemical CO2 Reduction. Adv. Energy Mater., 2023, DOI: 10.1002/aenm.202203896. https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/aenm.202203896. 原創文章,作者:Gloria,如若轉載,請注明來源華算科技,注明出處:http://www.zzhhcy.com/index.php/2023/10/12/72e8752068/ 催化 贊 (0) 0 生成海報 相關推薦 歐陽曉平/潘勇/潘俊安AM:氟化石墨烯納米片的表面工程使超快鋰/鈉/鉀一次電池成為可能 2023年9月25日 ?西工大/港城大Nano Energy:CeO2作為電子緩沖器抑制Ir析出,實現IrOx/CeO2穩定酸性析氧 2023年10月7日 Small:引入石墨烯量子點,助力缺陷Co-N-C催化劑高效催化ORR 2023年10月21日 中科院孫劍Appl. Catal. B.: 具有Na和S協同的單金屬鐵催化劑用于CO2還原為醇 2023年10月13日 四單位聯合Nano Lett.:活性提高28倍!亞表面摻雜激活Pt單原子用于ORR 2023年10月10日 王春生Nature Energy:臨界相間過電位作為全固態鋰電池設計的鋰枝晶抑制標準 2023年10月7日